SIM卡工艺
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nano与micro SIM卡合一工艺存在哪些技术挑战?
本文分析了nano与micro SIM卡一体化工艺面临的结构设计、制造精度、功能稳定性和行业标准适配等核心挑战,揭示了冲切应力控制、模具寿命优化及电磁兼容性提升等技术难点,为复合SIM卡工艺研发提供理论参考。
本文分析了nano与micro SIM卡一体化工艺面临的结构设计、制造精度、功能稳定性和行业标准适配等核心挑战,揭示了冲切应力控制、模具寿命优化及电磁兼容性提升等技术难点,为复合SIM卡工艺研发提供理论参考。